產(chǎn)品詳情
PECVD 系統
PE-12100C
用途:
使傳統的化學(xué)氣象沉積(CVD)反應溫度降低,在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離,形成等離子體,利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應.
PECVD系統就是為了使傳統的化學(xué)氣象沉積(CVD)反應溫度降低,在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離,形成等離子體,利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應,所以這個(gè)系統稱(chēng)為增強型化學(xué)氣相沉積系統(PECVD)。
該型號PECVD為成儀新款,綜合了國內大多數廠(chǎng)家的管式PECVD系統的優(yōu)點(diǎn),在PECVD前端加入了氣體預熱區,實(shí)驗證明此結構沉積速度快,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。而且控制部分采用了成儀自主研發(fā)的實(shí)驗電爐AIO全自動(dòng)智能控制系統,使得操作更加簡(jiǎn)便,功能更加強大。
主要特點(diǎn):
1. 氣體預熱——增加前端氣體預熱區,沉積速度更快,成膜效果更好;
2. AIO控制系統——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統控制集中于一個(gè)7英寸觸摸屏進(jìn)行統一集中調節和操控,協(xié)調控制——成儀AIO控制系統;
3. 管內壓力自動(dòng)平衡——管內壓力實(shí)時(shí)監測,自動(dòng)平衡管內壓力。
4. 智能氣路通斷——每路氣體均可定時(shí)通斷,省時(shí)省力;
5. 射頻功率和開(kāi)關(guān)定時(shí)控制——預先設定好功率的大小和打開(kāi)與關(guān)閉的時(shí)間,自動(dòng)運行;
6. 爐膛移動(dòng)速度可調——根據實(shí)驗要求,用戶(hù)可設定爐膛左右移動(dòng)的速度可距離;
7. 整機結構融為一體——移動(dòng)方便,避免分散組裝的困擾。
加熱爐部分 | |
爐膛模式 | 開(kāi)啟式爐膛 |
顯示模式 | 7英寸觸摸屏 |
極限溫度 | 1400℃ |
工作溫度 | ≤1350℃ |
升溫速率 | 建議10℃/Min Max:30℃/Min |
加熱溫區 | 3溫區 |
單溫區長(cháng)度 | 150 mm |
爐管規格 | 100*2000 mm |
控溫精度 | ±1℃ |
密封方式 | 快速法蘭密封 |
溫度曲線(xiàn) | 30段"時(shí)間—溫度曲線(xiàn)"任意可設 |
預存曲線(xiàn) | 可預存15條溫度曲線(xiàn) |
超溫報警 | 有 |
過(guò)流保護 | 有 |
斷偶提示 | 有 |
測溫元件 | s型熱電偶 |
爐膛材料 | 氧化鋁纖維 |
外形尺寸 | 2600*860*1400MM |
射頻電源 | |
信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
功率輸出范圍 | 5W-300W |
功率穩定度 | ±0.1% |
諧波分量 | ≤-50dbc |
供電電壓 | 單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ |
整機效率 | >=70% |
功率因素 | >=90% |
冷卻方式 | 強制風(fēng)冷 |
真空部分 | |
工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ |
功率 | 500W |
抽氣速率 | 4Ls |
進(jìn)氣口口徑 | KF25 |
排氣口口徑 | KF25 |
轉速 | 1450rpm |
噪音 | 55dB |
極限真空 | 4X10-2Pa |
氣路系統 | |
1,2氣路采用DB07K系列 | |
3路采用高精度CS200系列 | |
整機系統特色 | |
正壓測量 | -100Kpa---100Kpa |
真空測量 | 10-2Pa ~100Kpa(支持Ar測量) |
正壓保護 | 支持 |
壓力恒定 | 支持 |
智能氣路 | 支持 |
氣路定時(shí) | 支持 |
射頻工作時(shí)間設定 | 支持 |
移動(dòng)速度調節 | 支持 |
系統真空度 | 4.8×10-3Pa |
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